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【無錫水處理設備http://www.cnd5.com】反滲透純水設備停用保護的目的是：①避免生物的滋生和污染；②防止膜在停用時，在含有阻垢劑的情況下形成亞穩定態的鹽類析出而結垢，導致性能的下降。

（一）短期停運保護

反滲透純水設備停運時間一般不超過3天則可以使用沖洗方法作為保護措施，其參考步驟是：

 (1)停止反滲透純水設備的運行，打開濃水沖洗排放閥。

 (2)打開沖洗進水閥，起動沖洗水泵，一般低壓沖洗為3bar(40psi)，調節沖洗流量在額定量。對裝有1個膜的8in元件，壓差控制在不應超過1bar(15psi);對于裝有6個膜的8in元件，壓差不應超過60psi。一個容器的沖洗流量約9m/h，沖洗時間20min左右。

 (3)沖洗結束時，在純水設備中充滿沖洗水的情況下關閉沖洗進水、排水門，關閉沖洗水泵。

 (4)當采用低壓給水沖洗時，則沖洗水SDI要保證合格，并在沖洗時停加阻垢劑。

 (5)當水溫高于20℃時，每天重復上述操作3次。低溫時每天應沖洗一次。

 (6)對于純水設備暴露在陽光之下，水溫超過45℃的情況，要連續不斷地用沖洗水沖洗純水設備，或每8h起動運行1~2h。

（二）長期停運保護

反滲透純水設備長期停運一般超過3天以上（水溫不應超過45℃，純水設備不應直接暴露在陽光下），按以下方法保護：

 (1)停止反滲透純水設備的運行。

 (2)如膜純水設備無水垢，可不用酸清洗液，只以pH=11的堿清洗液，循環清洗2h，如有微生物污染，還需在清洗后殺菌。

 (3)殺菌使用非氧化性殺菌劑或1%（質量）的亞硫酸氫鈉（食品級）沖洗純水設備（如無微生物污染時0.5%已足夠)。連續沖洗直到排放水中含有0.5%亞硫酸氫鈉為止。沖洗時按照清洗時建議的流量，約為30min。為保證純水設備內空氣最少，應在充滿沖洗液的最高壓力容器的頂部有少量藥液溢出。

 (4)在純水設備中充滿上述溶液的情況下，嚴密關閉所有進口和出口閥門。

 (5)采用亞硫酸氫鈉時，每一周檢測一次保護液的pH值，由于NaHSO3，氧化反應為酸，當pH值小于3或濃度低時，或保護超過一個月時則需更換保護液。

 (6)為了防凍的保護（-4℃以下）應用1%NaHSO3和20%甘油的保護液，此時水結凍時僅為軟性物，不會傷害膜。

 (7)注意每三個月檢查一次微生物生長情況，當保護液不清澈時，應重新更換，并在重新運行前最好用堿性清洗液清洗一次。

（三）實施藥液保護時要注意的事項

 (1)配制溶液使用的水必須不含痕量的氯或者類似的氧化劑，可使用滲透水或處理過的給水。

 (2)設有清洗純水設備的反滲透純水設備可利用清洗純水設備沖洗和配制保護藥液。

 (3)純水設備重新起動時，必須至少將產品水排放1h，以便充分地沖掉產品水中的痕量保護液。

 (4)重新起動時可能發生暫時性的通量損失，一般這種情況不會持續兩天以上。

 (5)甲醛是比NaHSO3更為有效的殺菌劑，且不會受氧化分解，但甲醛有使人致癌的可能性，使用要小心。目前一般建議使用無醛化合物作為保護液(特殊情況下可使用甲醛液保護)。廠家規定須于膜使用6h后，有的廠家規定使用24h以上時，才可允許用甲醛溶液殺菌，否則膜將受到損害，影響水通量。純水設備，實驗室純水設備, 無錫純水設備,無錫水處理設備，無錫去離子水設備, 醫用GMP純化水設備。 半導體超純水設備。