【無錫水處理設備http://www.cnd5.com】清洗反滲透膜元件的一般步驟： 一、用泵將干凈、無游離氯的反滲透產(chǎn)品水從清洗箱(或相應水源)打入壓力容器中并排放幾分鐘。

　　二、用干凈的產(chǎn)品水在清洗箱中配制清洗液。

　　三、將清洗液在壓力容器中循環(huán)1小時或預先設定的時間。

　　四、清洗完成以后，排凈清洗箱并進行沖洗半導體超純水設備，然后向清洗箱中充滿干凈的產(chǎn)品水以備下一步?jīng)_洗。

　　五、用泵將干凈、無游離氯的產(chǎn)品水從清洗箱(或相應水源)打入壓力容器中并排放幾分鐘。

　　六、在沖洗反滲透系統(tǒng)后，在產(chǎn)品水排放閥打開狀態(tài)下運行反滲透系統(tǒng)，直到產(chǎn)品水清潔、無泡沫或無清洗劑(通常15~30分鐘) 純水設備，實驗室純水設備, 無錫純水設備,無錫水處理設備，無錫去離子水設備, 醫(yī)用GMP純化水設備。 半導體超純水設備。