【無錫水處理設備http://www.cnd5.com】清洗反滲透膜元件的一般步驟： 一、用泵將干凈、無游離氯的反滲透產品水從清洗箱(或相應水源)打入壓力容器中并排放幾分鐘。

　　二、用干凈的產品水在清洗箱中配制清洗液。

　　三、將清洗液在壓力容器中循環1小時或預先設定的時間。

　　四、清洗完成以后，排凈清洗箱并進行沖洗半導體超純水設備，然后向清洗箱中充滿干凈的產品水以備下一步沖洗。

　　五、用泵將干凈、無游離氯的產品水從清洗箱(或相應水源)打入壓力容器中并排放幾分鐘。

　　六、在沖洗反滲透系統后，在產品水排放閥打開狀態下運行反滲透系統，直到產品水清潔、無泡沫或無清洗劑(通常15~30分鐘) 純水設備，實驗室純水設備, 無錫純水設備,無錫水處理設備，無錫去離子水設備, 醫用GMP純化水設備。 半導體超純水設備。