【無錫水處理設備http://www.cnd5.com】隨著我國經濟的高速發展，半導體行業的發展也在迅速崛起，因此在半導體工業加工的過程中不可避免的會產生含有氟離子，銅離子，磷廢水的污染物廢水，下面就來列舉一些半導體工業廢水的處理方法都有哪些?

半導體工業的污水應該怎么處理？

方法/步驟

　　含氟離子廢水處理：

　　將廢水的p H值調整在6-7左右，再加入的過量的Ca Cl2和適量的絮凝劑，后續會行形成沉淀，部分污泥循環成為載體，在沉淀池中通過重力沉降能夠實現泥水分離。

　　第一次反應時能夠去除80%的氟，純水設備再一次加入絮凝劑，氟化鈣及其其他形態沉淀，利用污泥泵輸送到污泥沉淀池,用板框式脫水機壓成泥餅外運，這時候產生的壓濾液進入其他的系統進一步處理。

　　含磷離子廢水處理：

　　含磷廢水中磷主要以PO43-為主，采用的方法為化學沉淀法和混凝劑沉降法的組合工藝，通過加入Ca Cl2生成難溶于水的Ca5(PO4)3OH沉淀。

　　一級反應池的p H調整到5-6左右，二級反應池p H調整到8.5-9，三級反應池p H調整到9-9.5(確保完全生成羥基磷酸鈣)，純水設備此工藝流程比較簡單，費用也比較低，對于含磷廢水處理有很大的適用性。

　　與研磨廢水進行混合：

　　將半導體器件制造中產生的電鍍廢水和研磨廢水進行混合，混合廢水泵入浸沒式膜過濾裝置過濾，過濾的水泵入納濾膜過濾裝置過濾，經過納濾膜過濾裝置過濾的水即可直接回用。純水設備，實驗室純水設備, 無錫純水設備,無錫水處理設備，無錫去離子水設備, 醫用GMP純化水設備。 半導體超純水設備。