半導體超純水設備：DI水（超純水）的測試標準
【無錫水處理設備http://www.cnd5.com】對于DI水的測試，需要精密的儀器和受控制的環境，如需要達到一定級別的無塵環境，專門的實驗室等。不過大多數公司不可能投資巨額的資金去做該測試，將DI水送到有資格的外部實驗室進行測試是一個可以考慮的做法。下面的內容就DI水的常用測試項目和方法做簡單的介紹：
1、純水設備電阻率測試(Resistivity test )
該測試要求DI水需要處于溫度在25攝氏度狀況下，多數情況下工廠可以在線監控該項測試，即可以在DI水的出水端安裝一個電阻測試儀器，可以隨時記錄數據的變化。除了在線監控外，也可以送到實驗中心進行測試。測試結果的判定可以根據產品的要求而定。如在電腦的磁頭工廠，DI水是直接用來清洗產品的，所以要求非常高，一般要求在15---18MΩ?cm之間。測試方法是根據美國材料實驗協會的標準（ASTM）。
2、蒸發后殘留物測試（Residue after evaporation test）
該測試是監控DI水殘留物含量的測試，結果評估是看每升水中有多少ug殘留物(ug/L)，其依據是根據ASTM D5462 /F1094進行控制。
3、細菌測試（Bacteria test）
該測試監控DI水中微生物的含量，表面上我們看到的是一杯非常透明的干凈的水，其實在水里面有很多微生物的存在，相對來說，DI水中的微生物會比我們飲用的自來水中少很多，因為DI水的生產流程經過了多次過濾、消毒、紫外線殺菌等等過程。做該測試會耗時較長，具體做法是使用培養皿對DI水進行細菌培植，到一定的時數后再使用放大鏡看DI水中有多少細菌生長出來。因為細菌需要養料才能生長，該測試就是根據該原理來測試細菌的數量。其判定結果是觀測在100ml水中有多少個細菌，需要觀測出不同大小的數量。
4、純水設備液態塵粒測試（LPC test）
該測試是監控DI水中一定粒徑下粒子的含量，一般控制每毫升中離子的個數（個/ml）。該測試是DI水非常重要的一個測試，也是監控DI水的必測項目。在污染控制領域，一般對0.5um粒徑的粒子的個數進行嚴格控制，如在電腦磁頭行業的公司，一般標準控制在1000個/ml。不過到底定什么樣的標準，可以根據產品特性來對DI水的LPC做出限制，一般實驗可以測試小到0.1um 到350um的粒徑。該測試方法是根據ASTM D4327/5542條款盡心操作。
5、硅油總量測試（Total Silica test）
在多數的高科技產品生產中，對硅油是必須作出嚴格控制的，因為硅材料的分子特性可以對產品造成污染從而最終損壞該產品，所以該項測試是也是DI水非常重要的測試之一。測試結果一般是以每升水中含有多少微克的硅做為判定標準(ug/L)。該測試方法依據ASTM D5673和D3919進行測試。對于測試結果的理解，需要特別作出說明，如果測試結果顯示沒有硅油，這并不是表示DI水中不存在硅油，而是測試結果沒有超出測試標準中的敏感線（值）。
6、離子測試（Ionic content）
該測試也是DI水非常重要的測試之一，主要監控DI水中各種陰陽離子的含量，測試結果一般用總量不超過多少微克來判定（ug/ml）。比較常見的離子有：氯離子、鐵離子、鈉離子、硝酸根離子、硫酸根離子、鈣離子等。
7、金屬離子測試（Metal content test ）
該測試主要監控DI水中的金屬離子的含量，測試結果一般用般用總量不超過多少微克來判定（ug/ml）。比較常見的離子有：鉀離子、鐵離子、鈉離子、鎂粒子、鈣離子等等。監控金屬離子是用來評估水的硬度是否合適。
8、溶解氧測試（Dissolved Oxygen）
該測試主要是監控DI水中活性氧的含量，因為水中含氧量過高，會加速其它物質的氧化反應從而影響到終端產品。其結果評估一般看每升水中含有多少微克的活性氧（ug/l）?？梢詤⒖?span>ASTMD5391進行控制和測試。
綜上所述，我們對DI水進行各種不同類型的測試，其最終目的是為了終端產品的要求，根據不同產品類型可以有不同的測試項目和要求，以上幾個方面的測試是最常用的幾種測試方法。其它的如毒素測試（Endotoxin test），可溶解硅的測試（Dissolved silica test），總有機碳測試（TOC）等也時有用到。純水設備，實驗室純水設備, 無錫純水設備,無錫水處理設備，無錫去離子水設備, 醫用GMP純化水設備。 半導體超純水設備。
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