| 實驗室純水系統的介紹 | 2021-4-13 |
【無錫水處理設備http://www.cnd5.com】污在當今的實驗室中，水環境作為絕大多數實驗室的最基本環境，在實驗中占的地位非常重要，水質往往決定了很多實驗結果的真實性、可重復性，對多數做實驗的專家來說，他們通常要求純水中的雜質元素和化合物的濃度在ppb級甚... |
| 鈉濾膜（NF）技術分析 | 2021-4-13 |
【無錫水處理設備http://www.cnd5.com】污目前膜技術作為一個古老但是新興的技術，技術開發越來越深入，應用范圍越來越廣泛純水設備，本文總結目前世界上現有的膜處理技術，詳細介紹各種膜技術的原因及應用領域！
一、微濾（MF）膜技術
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| 納濾（NF）膜技術及工作原理 | 2021-4-3 |
【無錫水處理設備http://www.cnd5.com】納濾（NF）是一種新型分子級膜分離技術，是目前世界膜分離領域研究的熱點之一。NF膜孔徑在1nm以上，一般在1-2nm；對溶質的截留性能介于RO與UF膜之間；RO膜幾乎對所有的溶質都有很高的脫除率，但NF膜只對... |
| 實驗室純水的分類與標準 | 2021-4-3 |
【無錫水處理設備http://www.cnd5.com】國家實驗室純水標準（GB/T 6682）依據水的純度（水的導電性）分1、2、3級，1級電導率小于μs/cm；2級電導率小于μs/cm；3級電導率小于μs/cm；泉瑞QTCJ系列小型去離子水設備可滿足用戶的不同... |
| 電子工業用超純水概述 | 2021-3-23 |
【無錫水處理設備http://www.cnd5.com】半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高。目前我國電子... |
| 超純水在太陽能行業、硅片切割行業的應用半導體晶片切割制造用水工藝、半導 | 2021-3-23 |
【無錫水處理設備http://www.cnd5.com】超純水應用范圍概述:
電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗
電子管生產 電子管陰極涂敷碳酸鹽配液
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| 純水設備知識：正滲透(FO)的技術原理 | 2021-3-23 |
【無錫水處理設備http://www.cnd5.com】用只能透過溶劑而不能透過溶質分子的半透膜將溶劑和溶液隔開，溶劑分子將在滲透壓的作用下自發地從溶劑側透過膜進入溶液側，這就是滲透現象，也即所謂的“正向滲透”。... |
| 純水設備知識：去離子水設備四種工藝流程概述 | 2021-3-8 |
【無錫水處理設備http://www.cnd5.com】去離子水設備的工藝流程大致可分為四種：
第一種：采用陽陰離子交換樹脂取得的去離子水，一般通過之后，出水電導率可降到10us/cm以下，再經過混床就可以達到1us/cm以下了。但是這種方法做出來的水成本... |
| 廠務系統有哪些 | 2021-3-8 |
【無錫水處理設備http://www.cnd5.com】Cleanroom System [ 潔凈室系統 ]
a,內裝修工程：（高架地板工程、潔凈室隔墻板系統、鋁合金龍骨吊頂/ceiling grid、無塵涂裝、環氧地坪等）、壓差控制系統、ESD... |
| 氨氮（NH3-N）的測定 | 2021-3-8 |
【無錫水處理設備http://www.cnd5.com】方法原理
典化汞和典化鉀的堿性溶液與氨反應生成淡紅棕色膠態化合物，此顏色在教寬的波長范圍不內具強烈吸收。通常測量用波長在410—425nm范圍。
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